国产技术突破：从跟跑到并跑的关键跃迁。
28nm光刻机量产
上海微电子（SMEE）首台28nm浸没式光刻机完成客户验证，采用ArFi（氩氟浸没式）技术，支持7nm及以上制程的多重曝光工艺，光源系统能量密度提升40%，镜头组畸变率控制在2nm以内，国产化率超70%。
EUV光源突破
中科院光电所研发的13.5nm极紫外光源功率达50W，虽仅为ASML的1/5，但已满足基础研发需求；
哈尔滨工业大学成功研制DPP（放电等离子体）光源，理论极限效率达6%，为EUV整机集成铺平道路。
核心部件自主化
华卓精科双工件台定位精度达1.5nm，动态稳定性提升至ASML的1/3；
展开剩余77%国科精密28nm投影物镜通过中芯国际验证，数值孔径（NA）达0.93；
茂莱光学非球面镜面形误差控制在0.5nm以内，打破德国蔡司垄断。
全球市场格局：ASML垄断与国产替代角力
ASML地位稳固
占据全球82.1%市场份额，EUV光刻机单价攀升至1.8亿欧元，2025年营收占比预计超75%。其High-NA EUV光刻机（NA=0.55）实现2nm线宽，支持3nm制程量产。
中国市场需求爆发
2025年中国光刻机市场规模预计达600亿元，占全球22%，年增速50%以上。
中端市场（28nm及以上）国产化率突破15%，上海微电子90nm光刻机国内市占率超80%，年出货量突破50台。
出口管制倒逼创新
美国将DUV光刻机出口审批周期延长至18个月，中国通过二手市场及非美渠道获取约15%的EUV/高端DUV设备，同时加速自主研发。
球光刻机市场格局
尼康、佳能加速布局中国市场，尼康计划在中国建第二条光刻机产线，佳能推出面向成熟制程的FPA-3030i5a机型。
相关概念股梳理
福晶科技
全球激光晶体龙头，产品供货ASML，用于光刻机激光光源系统。
炬光科技
光场匀化器间接供货ASML，晶圆退火系统通过台积电验证，并获上海微电子订单。
奥普光电
中科院长光所旗下，参与光刻机光学部件研发，大股东正研发更高精度曝光系统。
张江高科
参股上海微电子（SMEE）10.779%，后者是国内唯一量产前道光刻机的企业（90nm制程，28nm在研），被视为国产光刻机突破的关键载体。
华天科技
专注于先进封装技术，与光刻机产业链深度协同。
最后一家，也是作者为大家挖掘的一家“上海微电子”借壳第一股，底部预期拉满！
1.公司和上海微电子属同一集团，实控人均为上海国资委。
2.公司拟转让43%股权至微电子，其董事长已去公司赴任副董事长，股东大会已召开，随时停牌。
3.因利润持续下滑，被视为集团内优质“壳资源”，且上海微电子董事长被任命为上海电气集团副董事长，人事布局为借壳铺路。
4.主营单一，规模小，微电子注入后，可直接改名微电子，以突出主业，股价有望迎来十倍增长！
为避免打扰主力，想知晓公司名字的朋友唻炂纵㞻：小李说市，既可以知晓。深知小散不易，愿与大家共前行!
风险提示：以上内容仅供参考和学习使用，不作为买卖依据，投资者应当根据自身情况自主做出投资决策并自行承担投资风险。市场有风险，投资需谨慎！
发布于：四川省